[단위공정/Lithography] 영어 약자 정리 ADI (After Develop Inspection) : 현상 후 패턴 검사 검사항목 장비 CD, 패턴 SEM (Scanning Electron Microscope) Particle 이물질 카운터 (Particle Counter) 광학 현미경 (Optical Microscope) Overlay O/L 전용 장비 CD (Critical Dimension): 가장 작은 크기의 회로 선폭, 간격, 홀 크기 등 HM (Hard Mask) Resolution Improving Tech OAI (Off Axis Illumination) : 수직 입사 광원이 0차광 이상 집광하지 못해 보완하기 위해 빛 사입사시키는 것 PSM (Phase Shift Mask): 빛의 상쇄간섭을 일으켜 원하는 부분만 PR이 남아있게 .. 2022. 2. 1. [단위공정/Lithography] 공정 Parameter 2022. 1. 26. [단위공정/Lithography] PR의 종류 분류: 자외선 노광용 PR (Positive/Negative) KrF 화학증폭형 PR ArF 화학증폭형 PR 2022. 1. 26. 이전 1 다음